多數(shù)的高溫退火爐廠家應用多盞鹵鎢素燈組進行組裝在一起作為熱源。鹵鎢素燈通常安裝在硅片的頂部或底部，數(shù)目能夠達到數(shù)百盞。它們被放置在多個區(qū)域里面，這樣可以保持硅片上的溫度越高，這種等高線溫度分布可以補償加熱過程中可能出現(xiàn)的加熱和冷卻不均勻，鹵素燈會產(chǎn)生短波輻射，而硅的加熱依賴于鹵素燈輻射的選擇性吸收。
該退火爐的溫度控制依賴于熱電偶或是光學高溫計。熱電偶與硅片直接接觸，以確定硅片的實際溫度。雖然熱電偶相對可靠，但在高溫下響應時間慢，壽命短。光學高溫計可用于非接觸測量，響應速度快，它可以通過加熱硅片和檢測硅片表面的紅外輻射能量來實現(xiàn)。
高溫退火爐的快速退火技術(shù)作為集成電路制造業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)之一，國外的相關(guān)技術(shù)和設備發(fā)展很快，很多技術(shù)相當成熟。為了縮小與國外差距，立足于我國研究開發(fā)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的快速退火工藝技術(shù)和設備定將具有重要的推廣價值。
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